產品詳情
高純氮氣是指純度達到99.999%（5N）及以上的氮氣，常溫常壓下為無色、無臭、無毒的惰性氣體，化學性質穩定，廣泛用于半導體、精密制造、科研等領域。
?? 純度與標準
依據現行國標 GB/T 8979-2025，分級如下：
? 高純氮：≥99.999%（雜質總含量≤10×10??），關鍵雜質：氧≤3×10??、水≤3×10??、氫≤1×10??、CO≤1×10??、CO?≤0.5×10??、甲烷≤1×10??；
? 超純氮：≥99.9999%（6N），雜質達ppb級，用于半導體等嚴苛場景。
?? 理化性質
分子式N?，相對分子質量28.013，相對密度（空氣=1）約0.967，氣體密度1.153 kg/m3（21.1℃，101.3kPa），液態密度808.5 kg/m3（-195.8℃），沸點-195.6℃，熔點-210℃，臨界溫度-147.05℃、臨界壓力3.4MPa。
?? 制備工藝
? 深冷空分：空氣液化后精餾，利用氮氧沸點差異分離，可制6N級，適合大規模供應；
? 變壓吸附（PSA）：常溫下碳分子篩優先吸附氧等雜質，純度可達99.999%，啟動快、靈活，中小流量常用；
? 膜分離：基于滲透率差異分離，純度約99%-99.5%，適合簡單場景；
? 精處理：加氫除氧、碳載除氧、分子篩深度
?? 純度與標準
依據現行國標 GB/T 8979-2025，分級如下：
? 高純氮：≥99.999%（雜質總含量≤10×10??），關鍵雜質：氧≤3×10??、水≤3×10??、氫≤1×10??、CO≤1×10??、CO?≤0.5×10??、甲烷≤1×10??；
? 超純氮：≥99.9999%（6N），雜質達ppb級，用于半導體等嚴苛場景。
?? 理化性質
分子式N?，相對分子質量28.013，相對密度（空氣=1）約0.967，氣體密度1.153 kg/m3（21.1℃，101.3kPa），液態密度808.5 kg/m3（-195.8℃），沸點-195.6℃，熔點-210℃，臨界溫度-147.05℃、臨界壓力3.4MPa。
?? 制備工藝
? 深冷空分：空氣液化后精餾，利用氮氧沸點差異分離，可制6N級，適合大規模供應；
? 變壓吸附（PSA）：常溫下碳分子篩優先吸附氧等雜質，純度可達99.999%，啟動快、靈活，中小流量常用；
? 膜分離：基于滲透率差異分離，純度約99%-99.5%，適合簡單場景；
? 精處理：加氫除氧、碳載除氧、分子篩深度
