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氫氧化鋯在多晶硅生產有高效的深度提純吸附劑

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山東德盛新材料有限公司

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  • 企業地址:山東省濟寧市金宇路52號創新大廈西區A座
  • 營業執照:已審核營業執照
  • 經營模式: 生產加工-私營有限責任公司
  • 所在地區:山東 濟寧市
  • 家家通積分:4546分
詳細參數
品牌/廠家德盛稀土產品名稱氫氧化鋯
純度級別優級純GR用途類別標準品
產品性狀固態粉末化學式H4O4Zr
相對分子質量250.477有效成分含量14475-63-9
執行質量標準企標安全性及措施密閉保存
產品顏色白色粉末CAS其他
包裝規格可按需包裝貯存方法陰涼干燥處密閉保存
產地其他

產品詳情

氫氧化鋯通過轉化為氧化鋯,在陶瓷領域主要用于制備高性能鋯基陶瓷優化其他陶瓷的結構與性能,尤其在提升陶瓷的強度、韌性和耐高溫性方面發揮關鍵作用,廣泛應用于結構部件、功能器件及生物醫療等領域。
氫氧化鋯在多晶硅生產中具有重要作用,主要體現在深度提純吸附和化學機械拋光兩個方面:

  • 深度提純吸附:在多晶硅生產中,氫氧化鋯是一種高效的深度提純吸附劑。多晶硅生產通常采用西門子法,以三氯氫硅為原料,通過氫氣還原在硅芯上沉積多晶硅。氫氧化鋯可以吸附去除三氯氫硅原料中的金屬離子和部分非金屬雜質,如硼、磷等,為后續還原工序提供高純度原料,最終保障多晶硅的電學性能和產品質量。
  • 化學機械拋光:在多晶硅的加工過程中,需要進行化學機械拋光(CMP)來獲得平整的表面。氫氧化鋯可以作為拋光漿料中的磨料成分之一,它與氧化鋁、二氧化硅等其他磨料配合使用,通過化學反應和機械研磨的共同作用,去除多晶硅表面的多余材料,實現表面平坦化。氫氧化鋯可以提供合適的研磨能力,有助于提高拋光效率和表面質量,使多晶硅表面的粗糙度降低,滿足后續工藝要求,例如為半導體制造中的光刻等工藝提供良好的表面基礎

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