產品詳情
適合的應用：
◆ 化學氣相沉積法制備高品質單晶金剛石（基臺直徑5厘米）;
◆ 化學氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和金剛石膜等各種碳納米薄膜。
產品特點：
◆ 本產品為不銹鋼腔體式5kw微波等離子體設備，功率密度高；
◆ 水冷式基片臺和水冷式金屬反映腔，保證系統能長時間穩定工作；
◆ 基片溫度以微波等離子體自加熱方式達到；
◆ 真空測量儀表采用全量程真空計，可精確測量本底真空和工作氣體壓強；
◆ 真空泵及閥門采用渦輪分子泵(極限真空為1x10-5Pa)和旋片式機械真空泵(極限真空為6x10-2Pa)，裝置可調節高真空隔膜閥和并聯高真空微調閥控制沉積氣壓；
◆ 配備冷卻水循環系統，無水源要求，確保裝置高功率下可長時間安全穩定運行；
◆ PLC自動控制和手動操作兩種操作模式，工藝流程可重復；
◆ 可配置沉積氣壓自動控制模塊與全自動工藝控制模塊，以便于穩定可靠地制備高品質金剛石薄膜和晶體。
◆ 化學氣相沉積法制備高品質單晶金剛石（基臺直徑5厘米）;
◆ 化學氣相沉積法制備石墨烯、碳納米管、富勒烯和金剛石膜等各種碳納米薄膜。
產品特點：
◆ 本產品為不銹鋼腔體式5kw微波等離子體設備，功率密度高；
◆ 水冷式基片臺和水冷式金屬反映腔，保證系統能長時間穩定工作；
◆ 基片溫度以微波等離子體自加熱方式達到；
◆ 真空測量儀表采用全量程真空計，可精確測量本底真空和工作氣體壓強；
◆ 真空泵及閥門采用渦輪分子泵(極限真空為1x10-5Pa)和旋片式機械真空泵(極限真空為6x10-2Pa)，裝置可調節高真空隔膜閥和并聯高真空微調閥控制沉積氣壓；
◆ 配備冷卻水循環系統，無水源要求，確保裝置高功率下可長時間安全穩定運行；
◆ PLC自動控制和手動操作兩種操作模式，工藝流程可重復；
◆ 可配置沉積氣壓自動控制模塊與全自動工藝控制模塊，以便于穩定可靠地制備高品質金剛石薄膜和晶體。
