產品詳情
直接結合鎂鉻磚是用高純或次高純燒結或電熔鎂砂和鉻精礦為質料制成的產品。直接結合是指固相晶粒間直接接觸產生的一種結合。該磚以SiO2<2%的高純燒結鎂砂和鉻精礦為質料，經過高溫燒結而成。制品的直接結合程度隨SiO2含量減少、燒成溫度進步而增強。
該產品雜質少，經高溫文超高溫燒成，玻璃相集中在晶相的三角區內，晶相和晶相直接結合。具有氣孔率低、耐壓強度高、耐磨性強、抗侵蝕、熱震和抗剝落性好。
直接結合鎂鉻磚廣泛用于電弧爐、煉銅轉爐閃速爐、RH、DH真空處理設備、爐外精粹VOD爐、AOD爐、水泥回轉窯等。
為構成直接結合，質料的SiO2含量要低，有必要進步燒成溫度。現有的直接結合鎂鉻磚的SiO2含量一般小于2%，燒成溫度在1700~1800℃之間。直接結合的構成是一個溶解-沉析進程。增加鉻精礦細粉含量，有利于直接結合的構成。因而，在配猜中有必要注意鉻精礦細粉配比。有硅酸鹽存在時，方鎂石-方鎂石間的結合會被Cr2O3所加強，而被Al2O3和Fe2O3所下降;在鎂鉻磚中加入Al2O3或Fe2O3可下降硅酸鹽熔點，加入Cr2O3則進步熔點。因而選用Cr2O3含量高的鉻礦較Cr2O3含量低的鉻礦有更高的高溫強度。次生尖晶石是直接結合磚的特征。Cr2O3含量越高，晶內和晶間尖晶石越多，制品強度越高，抗渣性越強。
該產品雜質少，經高溫文超高溫燒成，玻璃相集中在晶相的三角區內，晶相和晶相直接結合。具有氣孔率低、耐壓強度高、耐磨性強、抗侵蝕、熱震和抗剝落性好。
直接結合鎂鉻磚廣泛用于電弧爐、煉銅轉爐閃速爐、RH、DH真空處理設備、爐外精粹VOD爐、AOD爐、水泥回轉窯等。
為構成直接結合，質料的SiO2含量要低，有必要進步燒成溫度。現有的直接結合鎂鉻磚的SiO2含量一般小于2%，燒成溫度在1700~1800℃之間。直接結合的構成是一個溶解-沉析進程。增加鉻精礦細粉含量，有利于直接結合的構成。因而，在配猜中有必要注意鉻精礦細粉配比。有硅酸鹽存在時，方鎂石-方鎂石間的結合會被Cr2O3所加強，而被Al2O3和Fe2O3所下降;在鎂鉻磚中加入Al2O3或Fe2O3可下降硅酸鹽熔點，加入Cr2O3則進步熔點。因而選用Cr2O3含量高的鉻礦較Cr2O3含量低的鉻礦有更高的高溫強度。次生尖晶石是直接結合磚的特征。Cr2O3含量越高，晶內和晶間尖晶石越多，制品強度越高，抗渣性越強。
