產品詳情
K950X高真空蒸鍍儀在使用碳棒蒸鍍時可給出連續的碳膜，并且使用渦輪分子泵時*。它可用于TEM和X-Ray分析中的覆膜，以及SEM中的導電涂層。 在厚度為2nm (20埃)或更厚時膜是連續的。*通常的沉積形式是加熱碳或石墨棒。棒具有特定的形狀以達到*大電流密度，使得它具有足夠的溫度來引起蒸發。基于這點，出現了細小的、亮的、熱的碳顆粒。此系統需要用擴散泵或渦輪分子泵達到1x10-4 mbar或更高的真空度。 渦輪分子泵在K950X中作為標準配置，此泵作為機械真空泵的后級泵，真空為全自動控制，真空度優于1x10-5 mbar。可進行預熱及除氣控制，同時用瞬時蒸發開關使脈沖蒸發在用戶控制下進行。 標準的旋轉樣品臺可進行傾斜調節，非常容易適應各種樣品座。可選的樣品臺具有特殊的凹槽，可放置標準的載玻片，這在“石棉分析”需要鍍碳層時尤為有利。 碳棒頭在儀器中作為標準件。這是一個“快速釋放頭”，使用戶在選擇金屬蒸發附件、碳絲及光闌清洗頭時可方便地更換。放氣系統具有互鎖裝置，避免樣品受到干擾。渦輪分子泵可安裝在任何軸上，并且可安全地“關閉”直接通大氣。 | ||||
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主要特點 | ||||
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● 全自動抽氣系統 ● 容易操作 儀器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H (Overall height with Work Chamber 750mm) 重量：28Kg | ||||
