產品詳情
※產品描述：
CNT公司生產的CVD設備主要由全真空專用不銹鋼腔體，分子泵高真空系統，電源，生長機體載體及溫控系統，獨立排氣和生長壓力調節系統，冷卻循環水輔助設備等組成。整機結構緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設備控制系統采用邏輯按鈕手動控制與工控機自控控制可選。實現真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導體及金屬膜等。
※技術指標：
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參 數 名 稱 |
單 位 |
配置 |
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沉積類型 |
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碳化硅，氮化硅 |
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電 源 |
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射頻電源，帶正向功率和反射功率計指示，帶匹配器 |
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加熱系統 |
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平板式雙反應室系統，帶加溫和勻氣系統 |
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工 作 溫 度 |
℃ |
1300~1800℃ |
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基片臺尺寸 |
(φ×H)mm |
1英寸、二英寸、三英寸、四英寸 |
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基片臺轉速 |
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轉速0-20RPM |
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控 溫 精 度 |
℃ |
±1 |
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極限真空 |
pa |
6.67.0×10-5 |
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密封系統 |
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磁流體密封 |
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水冷、氣路系統 |
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冷卻水循環機、無噪聲氣泵 |
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報警及保護 |
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對缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警及相應保護措施 |
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真空系統
（選 配） |
真空系列 |
單級機械泵、擴散泵機組、分子泵 |
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工作腔體 |
不銹鋼 | |
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氣氛系統 |
浮子流量計、進口、國產質量流量計 | |
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記錄裝置 |
進口、國產無紙記錄儀 | |
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備注：西尼特可根據閣下要求提供各種非標產品的設計制造，歡迎來函、來電咨詢！
24小時熱線：400-668-6260 18610138965 Fax:010-51418223
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