主營產品：上海諧波減速機|哈默納科|harmonic|NIKUNI|山洋
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| 詳細參數 | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | HarmonicDrive | 型號 | CSF-17-80-2 |
| 類型 | 諧波減速器 | 載荷狀態 | 均勻載荷 |
| 傳動比級數 | 多級 | 軸的相對位置 | 立式加速器 |
| 傳動布置形式 | 展開式 | 加工定制 | 是 |
| 樣品或現貨 | 現貨 | 齒面硬度 | 軟齒面 |
| 布局形式 | 擺線式 | 用途 | 變速機 |
| 輸入轉速 | 1450rpm | 額定功率 | 15kw |
| 輸出轉速范圍 | 111rpm | 許用扭矩 | 1782N.m |
| 使用范圍 | 工業 | 減速比 | 236 |
| 產地 | 日本 | ||
輔助工藝。主要包括拋光與清洗。拋光一般使用化學機械平坦化完成拋光工藝harmonic拋光機諧波 CSF-17-80-2UH-LW，使用設備有CMP拋光機、硅片清洗機等。
行業內也將半導體制造工藝過程分為四種基本工藝：薄膜生成工藝harmonic拋光機諧波 CSF-17-80-2UH-LW、圖形轉移工藝、摻雜工藝、其他輔助工藝（包括熱處理工藝 、清洗工藝、CMP）。下面我們將分別介紹這四種工藝及其使用設備
薄膜生成工藝是通過生長或淀積的方法，生成集成電路制造過程中所harmonic拋光機諧波 CSF-17-80-2UH-LW需的各種材料的薄膜，如金屬層、絕緣層、半導體層等。半導體中各個層次的制造工藝如表2.1所示。例如可以利用蒸發、濺射、電鍍工藝生成導體層，如鋁或金為材質的導體層。二氧化硅作為絕緣層，可以用熱氧化工藝、化學氣相淀積工藝或濺射工藝來加工。
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