產品詳情
、除了空氣外,水的使用也只能限用去離子水(DIwater,de-ionizedwater)。一則防止水中粉粒污染晶圓,日本HD半導體機臺諧波CSG-20-80-2UH二則防止水中重金屬離子,如鉀、鈉離子污染金氧半(MOS)晶體管結構之帶電載子信道(carrierchannel),影響半導體組件的工作特性。去離子水以電阻率(resistivity)來定義好壞,一般要求至17.5MΩ-cm以上才算合格日本HD半導體機臺諧波CSG-20-80-2UH;為此需動用多重離子交換樹脂、RO逆滲透、與UV紫外線殺菌等重重關卡,才能放行使用。由于去離子水是最佳的溶劑與清潔劑,其在半導體工業之使用量非常多!
8、潔凈室所有用得到的氣源,包括吹干晶圓及機臺空壓所需要的,日本HD半導體機臺諧波CSG-20-80-2UH都得使用氮氣(98%),吹干晶圓的氮氣甚至要求99.8%以上的高純氮



